二流體噴霧是一種專業的清洗技術,結合兩種流體:主要流體(通常為溶劑或清洗劑)與輔助流體(通常為氣體或空氣)。此技術因其高效且精準地去除脆弱表面上的污染物,廣泛應用於電子製造業及˙各產業。
在二流體噴霧系統中,主要流體與輔助流體混合並霧化成細緻噴霧。
霧化過程產生高速噴向目標表面的微小噴霧。這些噴霧的衝擊力,結合主要流體的清洗特性,能有效去除灰塵、微塵和殘留物等污染物,而輔助流體能控制噴霧的液滴大小、速度和模式方面。透過調整輔助流體的流速和壓力,可針對特定應用優化清洗製程。
二流體噴霧技術廣泛應用於電子產業,以清洗各種元件,包括:
二流體噴霧技術為清洗電子元件提供強大且多功能的清洗方案。透過了解此技術的原理和應用,電子製造商能優化其清洗製程並提升產品品質。
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