二流体喷雾是一种专业的清洗技术,结合两种流体:主要流体(通常为溶剂或清洗剂)与辅助流体(通常为空气或气体)。此技术因其高效且精准地去除脆弱表面上的污染物,广泛应用于电子制造业及各行业。
在二流体喷雾系统中,主要流体与辅助流体混合并雾化成细致喷雾。
雾化过程产生高速喷向目标表面的微小喷雾。这些喷雾的冲击力,结合主要流体的清洗特性,能有效去除灰尘、微尘和残留物等污染物,而辅助流体能控制喷雾的液滴大小、速度和模式方面。通过调整辅助流体的流速和压力,可针对特定应用优化清洗过程。
二流体喷雾技术广泛应用于电子产业,以清洗各种元件,包括:
二流体喷雾技术为清洗电子元件提供强大且多功能的清洗方案。通过了解此技术的原理和应用,电子制造商能优化其清洗过程并提升产品质量。
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